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フォトレジストとは、光によって半導体の微細なパターンを形成するために使用する化学薬剤のことです。半導体の製造工程では、ウェーハにフォトレジストを塗布し、原版に作成した回路パターンに光を照射します。すると、照射した部分が化学反応するので、その部分を取り除くことで、微細なパターン形成が可能になるのです。
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